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AR-N4400 紫外光刻胶耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS 可替代 SU8 胶

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AR-N 7520 电子束光刻胶高分辨电子束曝光、混合曝光等

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AR-N 4400耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS半导体材料

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汇德信科技用于LIGA及MEMS应用半导体材料 AR-N4600 紫外光刻胶负胶

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汇德信科技 AR-P 6200 用于高分辨率电子束曝光电子束光刻胶

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AR-P631-679 高分辨率电子束曝光 lift-off 工艺石墨烯 / 碳纳米管转移

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AQM HSQ 超⾼分辨率电⼦束负胶,响应速度快,货源充实

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AR-P 3200紫外光刻胶半导体材料电子束光掩膜板制作

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AR-P 3740 / 3840半导体材料电子专用掩膜板制作

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AR-BR 5400双层 lift-off 工艺的底层胶半导体材料

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AR-P5300 用于单层 lift-off 工艺紫外光刻胶汇德信科技

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AR-N 7700 电子束光刻胶汇德信科技高灵敏度电子束曝光、混合曝光

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AR-N 4600 紫外光刻胶适用于 LIGA 及 MEMS 应用永久保留胶体结构

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AR-N7500 电子束光刻胶汇德信科技高分辨率曝光混合曝光

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SX AR-PC 5000/41 特殊功能光刻胶一站采购商家服务专业

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电子束光刻胶 SX AR-N 8200（Medusa 82）的耐干法刻蚀能力

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SX AR-P 3500/8 特殊功能光刻胶汇德信科技厂家直供

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AR-BR5400 汇德信科技高温稳定性强紫外光刻胶

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Keller 红外测温仪用于晶体生长、RTP、PLD、MBE温度测量

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AR-P 3200电子专用材料半导体电子元器件耐刻蚀工艺

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电子束光刻胶 AR-PC 5090.02, 5091.02, 5092.02（Electra 92）

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铸造厂钢水/铁水温度测量 Keller 红外测温仪 CellaCast 双色测温

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德国 Allresist 紫外光刻胶 AR-P 3200 国内独家代理超20年

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AR-PC 500 特殊功能光刻胶资质齐一站式供应省心

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电子束光刻胶适用于干法刻蚀工艺质保期长性能稳定

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AR-N 4340集成电路加工工艺的底层胶半导体材料

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AR-P 8100 PPA直写胶适用于热探针直写及电子束曝光

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AR-P 3100 电子专用材料半导体电子元器件用于掩膜板制作

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SX AR-N 4340/7 特殊功能光刻胶汇德信科技耐高温紫外负胶

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纳米压印模板汇德信科技多种规格的微纳米图形和光学结构模板

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